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KLOE 激光直写机 无掩膜光刻机
简介:

法国KLOE公司在光刻方面有着丰富的经验,其研发的UV- KUB系列光刻机是一种基于UV LED的曝光机系统,结构紧凑,可以直接放置在实验台上,能够处理可达直径4英寸的晶圆,兼容硬接触(接触式)或者软接触(接近式)工艺,可自动调整掩膜高度以适应不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要预热,也不需要单独的冷却单元。另外,UV-KUB系列先进的设计,保证了光源的准直性和均匀性,其zui小分辨率可达2μm,发散角小于2°

本系统适用于市面上常用的光刻胶,如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。


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